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科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統 參考價：499999
PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統是一款低成本，適合于科研機構實驗室的桌面型科研設備，整套系統的目的是在4寸以及以下的樣品上進行...
國產等離子刻蝕機 參考價：面議
PLUTO-MH國產等離子刻蝕機是針對于高校，科學研究所和企業實驗室，或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件...
CCP等離子刻蝕機 參考價：88000
等離子刻蝕機(Plasma Etcher)是一種常用于微納米加工領域的設備，用于對半導體器件、光學元件、生物芯片等材料進行精細加工和圖案定義。其原理基于等離子體...
ICP等離子刻蝕機 參考價：88000
ICP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統。作為一個多功能系統，它通過優化的系統設計與靈活的配置方案，獲得...
國產等離子刻蝕機設備 參考價：面議
PLUTO-MH國產等離子刻蝕機設備是一種用于微納米加工的關鍵設備，主要用于半導體、光電子、納米材料等領域的微細加工和表面處理。等離子刻蝕技術是半導體制造中的關...
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